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17 PSS AN CMP10 CMP slurry 中的大顆粒

  發(fā)布時(shí)間:2021/3/10 點(diǎn)擊量:1762

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝的質(zhì)量取決于拋光設(shè)備和漿料,漿料由包含多種化學(xué)添加劑的液體中定義明確的固體顆粒組成。當(dāng)今主要的生產(chǎn)問(wèn)題之一是根據(jù)漿液的規(guī)格其質(zhì)量,以及在使用時(shí)(POU)免受任何形式的降解的穩(wěn)定性。許多漿料是不穩(wěn)定的膠體體系,具有相對(duì)較短的保存期限。同樣,將漿液從容器傳輸?shù)?/span>CMP工具可能是由于剪切,沉降或團(tuán)聚而導(dǎo)致降解的原因。影響漿料性能的一個(gè)關(guān)鍵方面是在CMP過(guò)程中會(huì)導(dǎo)致缺陷(例如晶片上的微劃痕)的大顆粒的存在。

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